北京柏杉松知识产权代理事务所 / 杨卫萍

综合排名:17596
4.6
代理专利:243

基本信息

姓名 杨卫萍
代理案件 243 排名:21370
授权率 73.00% 排名:6103
平均授权时间 0.0个月 排名:38059
质量评分 26.1 排名:17523

主要客户

客户构成: 企业 26学校 8
客户名称 申请量 发明专利 实用新型 外观设计 PCT申请数
日本瑞翁株式会社 205 207 0 0 205
日本帕卡濑精株式会社 7 7 0 0 7
HOYA株式会社 3 3 0 0 0
东京都公立大学法人 3 3 0 0 3
中国电力株式会社 3 3 0 0 3
住友化学株式会社 3 3 0 0 3
瑞住合成橡胶株式会社 3 3 0 0 3
J网络公司 2 2 0 0 0
RIMTEC株式会社 2 2 0 0 2
国立大学法人九州大学 2 3 0 0 3
客户名称 申请量 发明专利 实用新型 外观设计 PCT申请数
日本瑞翁株式会社 2 207 0 0 205
国立大学法人九州大学 1 3 0 0 3
国立大学法人京都大学 1 1 0 0 1
国立大学法人横浜国立大学 1 1 0 0 1
学校法人早稻田大学 1 1 0 0 1
日清纺控股株式会社 1 1 0 0 1
明知大学校产学协力团 1 1 0 0 0
独立行政法人国立高等专门学校机构 1 1 0 0 1
客户名称 申请量 发明专利 实用新型 外观设计 PCT申请数
暂无数据

数据统计

专利类型统计

发明专利 实用新型 外观设计
243 0 0

技术领域分析

领域排名 技术领域 专利数量
1 H01M用于直接转变化学能为电能的方法或装置,例如电池组 61
2 G02B光学元件、系统或仪器 24
3 C08F仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 22
4 C08L高分子化合物的组合物 22
5 B32B层状产品,即由扁平的或非扁平的薄层,例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品 10
6 C08J加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理 9
7 C01B非金属元素;其化合物 7
8 G03G电记录术;电照相;磁记录 7
9 C07C无环或碳环化合物 6
10 C08G用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 6
11 C23C对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆 6
12 B29C塑料的成型或连接;塑性状态物质的一般成型;已成型产品的后处理,如修整 5
13 C08C橡胶的处理或化学改性 5
14 B01J化学或物理方法,例如,催化作用、胶体化学;其有关设备 4
15 C09K不包含在其他类目中的各种应用材料;不包含在其他类目中的材料的各种应用 4
16 G03F图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备 4
17 H01F磁体;电感;变压器;磁性材料的选择 4
18 H01L半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 4
19 B01D分离 3
20 C03C玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分;玻璃的表面处理;由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理;玻璃与玻璃或与其他材料的接合 3
领域排名 外观设计国际分类 专利数量
暂无数据

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