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H01M用于直接转变化学能为电能的方法或装置，例如电池组
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455 |
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C08L高分子化合物的组合物
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70 |
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C09J黏合剂；一般黏合方法（非机械部分）；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
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51 |
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H01L半导体器件；其他类目未包含的电固体器件
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47 |
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C03C玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合
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30 |
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C08G用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
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28 |
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C22C合金
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C23C对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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26 |
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A61K医用、牙科用或梳妆用的配制品
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21 |
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C03B制造、成型或辅助工艺
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21 |
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B01D分离
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19 |
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C01B非金属元素；其化合物
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19 |
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H01B电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择
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17 |
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C08J加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
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16 |
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G03G电记录术；电照相；磁记录
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16 |
| 16 |
B01J化学或物理方法，例如，催化作用、胶体化学；其有关设备
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15 |
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C30B单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
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15 |
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C08F仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物
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14 |
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B32B层状产品，即由扁平的或非扁平的薄层，例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
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13 |
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C09D涂料组合物，例如色漆、清漆、天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
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13 |
