| 1 |
H01M用于直接转变化学能为电能的方法或装置，例如电池组
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421 |
| 2 |
C09J黏合剂；一般黏合方法（非机械部分）；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
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407 |
| 3 |
C03C玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合
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222 |
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C23C对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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183 |
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C08L高分子化合物的组合物
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142 |
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H01L半导体器件；其他类目未包含的电固体器件
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126 |
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C08G用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
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117 |
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B32B层状产品，即由扁平的或非扁平的薄层，例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
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78 |
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C03B制造、成型或辅助工艺
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77 |
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C07C无环或碳环化合物
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70 |
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C07D杂环化合物
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69 |
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A61K医用、牙科用或梳妆用的配制品
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C30B单晶生长（用超高压的，例如用于金刚石形成的入B01J3/06）；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼（金属或合金的区熔精炼入C22B）；具有一定结构的均匀多晶材料的制备（金属铸造，按同样工艺或装置的其他物质铸造入B22D；塑料的加工入B29；改变金属或合金的物理结构入C21D、C22F）；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
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64 |
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G02B光学元件、系统或仪器
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62 |
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B01D分离
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51 |
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B01J化学或物理方法，例如，催化作用、胶体化学；其有关设备
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49 |
| 17 |
C08J加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
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48 |
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C04B石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
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47 |
| 19 |
C22C合金
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46 |
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C01G含有不包含在C01D或C01F小类中之金属的化合物
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45 |
