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H01L半导体器件；其他类目未包含的电固体器件
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C04B石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
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C08L高分子化合物的组合物
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C09K不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
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G02B光学元件、系统或仪器
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G03F图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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A61K医用、牙科用或梳妆用的配制品
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B29D用塑料或用塑性状态的物质生产特殊制品
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B41M印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷
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C07F含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
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C08B多糖类；其衍生物
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C08G用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
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C09D涂料组合物，例如色漆、清漆、天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
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C09J黏合剂；一般黏合方法（非机械部分）；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
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C10G烃油裂化；液态烃混合物的制备，如用破坏性加氢反应、低聚反应、聚合反应（裂解成氢或合成气入C01B；气态烃裂化或高温热解成一定或特定结构的单个烃或其混合物入C07C；裂化成焦炭入C10B）；从油页岩、油矿或油气中回收烃油；含烃类为主的混合物的精制；石脑油的重整；地蜡
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G21K未列入其他类目的粒子或电磁辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
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