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G03F图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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55 |
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C08L高分子化合物的组合物
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45 |
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H01L半导体器件；其他类目未包含的电固体器件
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33 |
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C08G用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
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30 |
| 5 |
C09D涂料组合物，例如色漆、清漆、天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
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28 |
| 6 |
C09J黏合剂；一般黏合方法（非机械部分）；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
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15 |
| 7 |
C07F含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物
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14 |
| 8 |
C08F仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物
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13 |
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C07C无环或碳环化合物
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12 |
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H01M用于直接转变化学能为电能的方法或装置，例如电池组
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12 |
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A61K医用、牙科用或梳妆用的配制品
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10 |
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C04B石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
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7 |
| 13 |
B32B层状产品，即由扁平的或非扁平的薄层，例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
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6 |
| 14 |
C09K不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
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6 |
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B01J化学或物理方法，例如，催化作用、胶体化学；其有关设备
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5 |
| 16 |
C23C对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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5 |
| 17 |
C10M润滑组合物（钻井用组合物入C09K8/02）；在润滑组合物中化学物质或单独使用或用作润滑组分
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4 |
| 18 |
C11D洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收
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4 |
| 19 |
B24B用于磨削或抛光的机床、装置或工艺；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
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3 |
| 20 |
C08C橡胶的处理或化学改性
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3 |
