基本信息:
- 专利标题： 一种还原炉生产过程控制方法、装置、设备及存储介质
- 申请号：CN202411993589.X 申请日：2024-12-31
- 公开(公告)号：CN119828475A 公开(公告)日：2025-04-15
- 发明人： 钟伟民 , 薛栋 , 刘雄 , 彭鑫 , 钱锋
- 申请人： 华东理工大学 , 新特能源股份有限公司
- 申请人地址： 上海市徐汇区梅陇路130号
- 专利权人： 华东理工大学,新特能源股份有限公司
- 当前专利权人： 华东理工大学,新特能源股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市徐汇区梅陇路130号
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 徐伟
- 主分类号： G05B13/04
- IPC分类号： G05B13/04
摘要：
本申请涉及工业控制技术领域，具体涉及一种还原炉生产过程控制方法、装置、设备及存储介质。该方法通过还原炉系统构建自适应控制器，并根据预设更新策略，对自适应控制器的各组成网络进行更新处理，直至各组成网络满足预设收敛条件，从而通过更新后的自适应控制器，获得还原炉系统的目标控制策略，以控制还原炉系统的成本函数值达到目标值。如此，通过目标控制策略调整还原炉的控制输入，实现对硅棒表面温度与硅沉积速率等生产参数的稳定控制，提高了多晶硅生产效率和安全。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G05 | 控制；调节 |
| ----G05B | 一般的控制或调节系统；这种系统的功能单元；用于这种系统或单元的监视或测试装置 |
| ------G05B13/00 | 自适应控制系统，即系统按照一些预定的准则自动调整自己使之具有最佳性能的系统 |
| --------G05B13/02 | .电的 |
| ----------G05B13/04 | ..包括使用模型或模拟器的 |