基本信息:
- 专利标题： 一种基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用
- 申请号：CN202210574010.0 申请日：2022-05-24
- 公开(公告)号：CN117143285A 公开(公告)日：2023-12-01
- 发明人： 方书农 , 王溯
- 申请人： 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 申请人地址： 上海市松江区思贤路3600号
- 专利权人： 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人： 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市松江区思贤路3600号
- 代理机构： 上海弼兴律师事务所
- 代理人： 马续红; 陈卓
- 主分类号： C08F230/04
- IPC分类号： C08F230/04 ; G03F7/004
摘要：
本发明公开了一种基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用。本发明所提供的光刻胶组合物包含以下组分：聚合物、光产酸剂、有机溶剂和有机碱，所述聚合物由如下所示单体A和单体B通过聚合反应得到。所述光刻胶可用于EUV光刻技术，具备高分辨率、高灵敏度和高光敏度的特点，有广泛的应用前景。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F230/00 | 具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的共聚物，每个脂族基只有1个碳—碳双键，并且含有磷、硒、碲或金属 |
| --------C08F230/04 | .含一种金属 |