基本信息:
- 专利标题： 一种CoWP兼容性的半水基清洗液、其制备方法及应用
- 申请号：CN202010209656.X 申请日：2020-03-23
- 公开(公告)号：CN113430070A 公开(公告)日：2021-09-24
- 发明人： 王溯 , 蒋闯 , 史筱超
- 申请人： 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 申请人地址： 上海市松江区思贤路3600号
- 专利权人： 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人： 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市松江区思贤路3600号
- 代理机构： 上海弼兴律师事务所
- 代理人： 王卫彬; 陈卓
- 主分类号： C11D1/94
- IPC分类号： C11D1/94 ; C11D3/20 ; C11D3/28 ; C11D3/30 ; C11D3/60 ; H01L21/02 ; B08B3/08
摘要：
本发明公开了一种CoWP兼容性的半水基清洗液、其制备方法及应用。本发明的半水基清洗液由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：5％‑70％的溶剂、0.5％‑20％的醇胺、0.1％‑20％的季铵碱、0.1％‑15％的缓蚀剂、0.1％‑10％的钝化剂、0.01％‑20％的螯合剂、0.1％‑10％的两性表面活性剂、0.1％‑10％的非离子型表面活性剂和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占原料的总质量的百分比。本发明的半水基清洗液能适应CoWP等金属环境，对多种金属及电介质的缓蚀性强，清洗效果佳。
公开/授权文献:
- CN113430070B 一种CoWP兼容性的半水基清洗液、其制备方法及应用 公开/授权日：2024-08-23