基本信息:
- 专利标题： 一种巯基-烯纳米压印光刻胶及其使用方法
- 申请号：CN201810354663.1 申请日：2018-04-19
- 公开(公告)号：CN108897192B 公开(公告)日：2022-04-05
- 发明人： 庞浩 , 李桃 , 廖兵 , 年福伟 , 黄建恒 , 汪慧怡 , 韦代东 , 蒙业云 , 罗业燊
- 申请人： 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地 , 中科院广州化学有限公司 , 中科院广州化学所韶关技术创新与育成中心 , 南雄中科院孵化器运营有限公司 , 中国科学院大学
- 申请人地址： 广东省韶关市南雄市珠玑工业园(广东南雄精细化工基地); ; ; ;
- 专利权人： 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地,中科院广州化学有限公司,中科院广州化学所韶关技术创新与育成中心,南雄中科院孵化器运营有限公司,中国科学院大学
- 当前专利权人： 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地,中科院广州化学有限公司 国科广化韶关新材料研究院 国科广化精细化工孵化器（南雄）有限公司 中国科学院大学
- 当前专利权人地址： 512400 广东省韶关市南雄市珠玑工业园（广东南雄精细化工基地）
- 代理机构： 广州市华学知识产权代理有限公司
- 代理人： 陈智英; 裘晖
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/027 ; G03F7/00
摘要：
本发明属于紫外纳米压印的技术领域，公开了一种巯基‑烯纳米压印光刻胶及其使用方法。所述巯基‑烯纳米压印光刻胶，包括以下按重量份数计的组分：含双键的杯芳烃衍生物50‑100份、含巯基的杯芳烃衍生物50‑100份、稀释剂20‑100份、引发剂0.1‑8份。本发明的巯基‑烯纳米压印光刻胶具有固化速率快、抗氧阻、耐刻蚀性能优异等特点。
公开/授权文献:
- CN108897192A 一种巯基-烯纳米压印光刻胶及其使用方法 公开/授权日：2018-11-27