基本信息:
- 专利标题： 自由电子激光器
- 申请号：CN201680082519.6 申请日：2016-11-29
- 公开(公告)号：CN108701953B 公开(公告)日：2020-08-25
- 发明人： P·W·斯摩奥伦堡 , J·A·G·阿克曼斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理人： 张启程
- 优先权： 15202244.8 2015.12.23 EP
- 国际申请： PCT/EP2016/079114 2016.11.29
- 国际公布： WO2017/108348 EN 2017.06.29
- 进入国家日期： 2018-08-23
- 主分类号： H01S3/09
- IPC分类号： H01S3/09 ; H05H9/00 ; G03F7/00
摘要：
一种自由电子激光器FEL包括波荡器24，产生相干EUV辐射，接收上游电子束EB2并发射下游电子束EB4，和至少电子源21a、21b，能够操作以产生上游电子束EB1、EB2，上游电子束EB1、EB2包括电子聚束。束路径配置为：引导上游电子束通过包括至少第一和第二线性加速器22a、22b的直线加速器系统(LINAC)、聚束压缩器28b和波荡器24。离开所述波荡器24的下游束以一相位与上游电子束平行地再循环通过第二直线加速器22b，使得下游束被所述直线加速器22b减速，随后以一相位与上游电子束平行地再循环通过第一直线加速器22a，使得下游束被第一线性加速器22a减速；以及，引导下游束至束收集器100。至少第一能量散布装置50a、50b、50c对电子聚束的能量分布赋予可逆变化，并且在束路径中位于聚束压缩器28之前的位置，使得它仅通过上游电子束EB1。第二能量散布装置50d反转由至少一个第一能量散布装置50a、50b、50c施加的电子聚束的能量分布的变化，第二散布装置50d在束路径中位于波荡器24之前的位置，使得它仅通过上游电子束EB2。
公开/授权文献:
- CN108701953A 自由电子激光器 公开/授权日：2018-10-23
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01S | 利用受激发射的器件 |
| ------H01S3/00 | 激光器，即利用受激发射对红外光、可见光或紫外线进行产生、放大、调制、解调或变频的器件 |
| --------H01S3/09 | .激励的方法或装置，例如泵激励 |