基本信息:
- 专利标题： 一种用于硬盘基片的抛光液及其制备方法
- 专利标题（英）：Polishing liquid for hand disk wafer and preparation method thereof
- 申请号：CN200610014604.7 申请日：2006-06-30
- 公开(公告)号：CN101096575A 公开(公告)日：2008-01-02
- 发明人： 仲跻和 , 李家荣 , 周云昌 , 高如山
- 申请人： 天津晶岭电子材料科技有限公司
- 申请人地址： 天津市天津开发区微电子工业区中晓园2-B号
- 专利权人： 天津晶岭电子材料科技有限公司
- 当前专利权人： 天津晶岭电子材料科技有限公司
- 当前专利权人地址： 天津市天津开发区微电子工业区中晓园2-B号
- 代理机构： 国嘉律师事务所
- 代理人： 卢枫
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02
摘要：
一种用于硬盘基片的抛光液，由磨料、氧化剂、pH值调节剂、螯合剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料10～50％；氧化剂0.01～10％；pH值调节剂1～6％；螯合剂0.01～1％；去离子水为余量；抛光液pH值范围为11～12，粒径为15nm～100nm。所述抛光液的制备方法是：首先将制备抛光液的各种组分分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。本发明的优点是：抛光液是碱性，不腐蚀污染设备；硬盘基片抛光速率快，平整性好；工艺简单，成本低。
摘要（英）：
The invention discloses a polishing liquid of hard disk base, which comprises the following parts: 10-50% abrasive material, 0.01-10% oxidant, 1-6% pH regulator, 0.01-1% chelant and deionized water, wherein the pH value scale is 11-12 and the grain size is 15-100nm. The making method of polishing liquid comprises the following steps: filtering and purifying each component; inputting each component into container tank to stir sufficiently under vacuum pressure; blending evenly to obtain the product.
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C09 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 |
| ----C09G | 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 |
| ------C09G1/00 | 抛光组合物 |
| --------C09G1/02 | .含有磨料或研磨剂 |